2018年中國(guó)新材料靶材行業(yè)現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)分析【圖】

    一、電子行業(yè)薄膜制備關(guān)鍵原料，預(yù)計(jì) 2016-2019 全球靶材市場(chǎng)增速達(dá) 13%

    靶材全球市場(chǎng)預(yù)計(jì) 16-19 復(fù)合增速 13%。 2016 年全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)容量達(dá) 113.6 億美元，相比于 2015 年的 94.8 億美元增長(zhǎng) 20%。預(yù)測(cè) 2016-2019 年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá) 13%， 到 2019 年全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模將超過(guò) 163 億美元。 2016 年全球靶材市場(chǎng)的下游結(jié)構(gòu)中，半導(dǎo)體占比 10%、平板顯示占 34%、太陽(yáng)能電池占 21%、記錄媒體占 29%，靶材性能要求依次降低。

2014-2016 全球靶材市場(chǎng)規(guī)模

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    相關(guān)報(bào)告：智研咨詢(xún)網(wǎng)發(fā)布的《2018-2024年中國(guó)濺射靶材產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)報(bào)告》

2016 年全球?yàn)R射靶材應(yīng)用結(jié)構(gòu)

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    市場(chǎng)集中度高，日、美占據(jù) 80%高端靶材市場(chǎng)。 濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶(hù)壁壘，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力企業(yè)較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè) 2017 年占據(jù)全球約 80%靶材市場(chǎng)。美、日等跨國(guó)企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)擅長(zhǎng)磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，原料多從國(guó)外進(jìn)口；中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段，逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶(hù)。

    二、國(guó)國(guó)內(nèi)靶材市場(chǎng)需求情況分析及預(yù)測(cè)

    1、 平面顯示：靶材第一大應(yīng)用，切入京東方等國(guó)內(nèi)顯示龍頭的供應(yīng)體系是關(guān)鍵我國(guó)平面顯示靶材市場(chǎng)發(fā)展迅猛， 2016 年市場(chǎng)規(guī)模已達(dá)到 80 億元。 2013-2016 年，全球平板顯示用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模分別為 29.5 億美元、 31.4億美元、 33.8 億美元和 38 億美元。其中，我國(guó)平板顯示用濺射靶材 2013-2016 市場(chǎng)規(guī)模分別為 39.4 億元、 55 億元、 69.3 億元和 80 億元。中國(guó)平面靶材需求在全球占比已經(jīng)從2013 年約 20%提升到 2016 年占比超過(guò) 30%。

2013-2016 年全球平面顯示靶材市場(chǎng)規(guī)模

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2013-2016 年中國(guó)平面顯示靶材市場(chǎng)規(guī)模

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    預(yù)計(jì) 2018-2020 年國(guó)內(nèi)顯示靶材需求增速維持 20-25%增速。 中國(guó)大陸從上世紀(jì) 80 年代開(kāi)始進(jìn)入液晶顯示領(lǐng)域，在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下，我國(guó)大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016 年中國(guó)平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到 1500 億元，同比增長(zhǎng) 25.99%； 2012-2016 年國(guó)內(nèi)平板顯示增速基本保持在 25%以上。 此外考慮到國(guó)內(nèi) LCD 國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上 OLED 滲透率有 望快速提升，預(yù)計(jì) 2018-2020 年國(guó)內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在 20-25%；對(duì)應(yīng)到國(guó)內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。

    2、半導(dǎo)體靶材：靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20 年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期， 17 年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體增速 24.81%。 半導(dǎo)體靶材性能要求位居各類(lèi)應(yīng)用之首。 半導(dǎo)體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測(cè)試材料。芯片制造對(duì)濺射靶材純度要求很高，通常需達(dá) 99.9995%（5N5）甚至 99.9999%（6N）以上。 2017 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速 21.62%，從下游需求結(jié)構(gòu)看，17 年增長(zhǎng)主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲(chǔ)器，增速達(dá)到 61.49%，增量來(lái)源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車(chē)電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?從 15年開(kāi)始國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持 20%左右增速，漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺(tái)灣向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)比較確定，國(guó)內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。 國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模 1,387 億元。，至少帶動(dòng)省市地方基金共 4,651億元，拉動(dòng)國(guó)內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長(zhǎng)和海外并購(gòu)。 未來(lái)第二期基金計(jì)劃啟動(dòng)，也將持續(xù)拉動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)。

2012-2017 全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模

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2012-2017 中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模

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    2011-2016 全球半導(dǎo)體用靶材年復(fù)合增長(zhǎng)率 3.17%， 預(yù)計(jì) 2018-2020 國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求增速在 20%左右。 國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)全球半導(dǎo)體用濺射靶材銷(xiāo)售額從 2011 年的 10.1 億美元到 2016 年為 11.7 億美元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為 3.17%，其中晶圓制造用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為 2.07%，封裝測(cè)試用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為 4.65%。2016 年我國(guó)集成電路用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模約 14 億元，年增速達(dá) 20%。供給端，隨著國(guó)產(chǎn)濺射靶材技術(shù)成熟，尤其是國(guó)產(chǎn)濺射靶材具備一定性?xún)r(jià)比優(yōu)勢(shì)，并且符合濺射靶材國(guó)產(chǎn)化的政策導(dǎo)向；需求端，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已基本確立，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起將推動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求的提升。預(yù)計(jì) 2018-2020 年我國(guó)濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大，復(fù)合增速將維持在 2016 年 20%左右增速水平。

    3、磁記錄： 應(yīng)用市場(chǎng)規(guī)?？捎^，有望從日韓轉(zhuǎn)移國(guó)產(chǎn)替代規(guī)模可觀， 不容忽略。 靶材在磁記錄領(lǐng)域的應(yīng)用容易被市場(chǎng)忽略，一方面因?yàn)閷?duì)應(yīng)的磁記錄下游增速不算快。 2012-2017 年我國(guó)信息記錄材料市場(chǎng)規(guī)模復(fù)合增速約 10%），另一方面磁記錄靶材在純度上要求并不如半導(dǎo)體和顯示靶材要求高。1）靶材的技術(shù)水平指標(biāo)不僅有純度，在材料缺陷、表面質(zhì)量控制、材料均一性等維度都有嚴(yán)格控制指標(biāo)； 2）實(shí)際上磁記錄靶材生產(chǎn)多數(shù)掌握在韓國(guó)、臺(tái)灣等企業(yè)，國(guó)內(nèi)實(shí)際上生產(chǎn)磁記錄靶材的企業(yè)和產(chǎn)量有限，國(guó)產(chǎn)替代化的存量空間可觀。

    太陽(yáng)能用靶材： 靶材應(yīng)用的后起之秀

    2011-2016 全球太陽(yáng)能用靶材增速保持 20%以上。太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展給太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)帶來(lái)了可觀的成長(zhǎng)空間， 2016 年全球太陽(yáng)能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模23.4 億美元，在全球靶材市場(chǎng)中占比約 21%。2011-2016 年全球太陽(yáng)能靶材規(guī)模增速一直保持在 20%以上。

    三、中國(guó)靶材行業(yè)發(fā)展規(guī)模預(yù)測(cè)

    國(guó)內(nèi)靶材需求和供給反差懸殊，國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速。2015 國(guó)內(nèi)靶材需求全球占比近 25%，年速約 20%；但國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)市場(chǎng)份額不到 2%，供需比例反差明顯。隨著國(guó)內(nèi)濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高，我國(guó)靶材生產(chǎn)成本優(yōu)勢(shì)明顯，靶材原料之一高純鋁的國(guó)內(nèi)進(jìn)出口量差距也在逐步縮小。隨著 2019 年國(guó)家進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束，國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)優(yōu)勢(shì)更加突出。預(yù)計(jì) 2018-2020 年國(guó)內(nèi)靶材需求將維持 20%以上高速增長(zhǎng)，市場(chǎng)份額有望進(jìn)一步擴(kuò)大。

    綜上，以 2016 年國(guó)內(nèi)外靶材規(guī)模數(shù)據(jù)為基準(zhǔn)，并假設(shè)國(guó)內(nèi)各類(lèi)靶材的需求增速， 測(cè)算得出： 18-20 年國(guó)內(nèi)靶材市場(chǎng)需求增速達(dá) 20%以上。

2018-2020 國(guó)內(nèi)靶材市場(chǎng)規(guī)模預(yù)測(cè)

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    2012-2016 國(guó)內(nèi)顯示增速 25%2016 國(guó)內(nèi)顯示靶材增速 15%。

2018-2020 國(guó)內(nèi)靶材顯示市場(chǎng)預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)靶材磁記錄市場(chǎng)預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)濺射靶材半導(dǎo)體市場(chǎng)預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)濺射靶材薄膜太陽(yáng)能市場(chǎng)預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)濺射靶材其他票預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)濺射靶材國(guó)內(nèi)需求市場(chǎng)規(guī)模及增速預(yù)測(cè)

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2018-2020 國(guó)內(nèi)濺射靶材薄膜太陽(yáng)能市場(chǎng)預(yù)測(cè)